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Eksma 0至45°AOI的寬帶和激光線反射鏡

簡要描述:Eksma 0至45°AOI的寬帶和激光線反射鏡
具有高反射率的寬帶和激光線介電反射鏡(在規(guī)定的較小范圍內(nèi)大于99%),可在0°至45°的所有入射角下工作。寬帶和激光線反射鏡適用于280-400 nm,349-355 nm,400-750 nm,524-532 nm,532 + 1064 nm,750-1100 nm,1047-1064 nm波長范圍。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2021-03-22
  • 訪  問  量:946

詳細(xì)介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 0至45°AOI的寬帶和激光線反射鏡


Eksma 0至45°AOI的寬帶和激光線反射鏡

寬帶介電反射鏡在280-400 nm,400-750 nm,750-1100 nm波長范圍內(nèi)從0°到45°的所有入射角均可工作。

產(chǎn)品介紹

Ø對于(s + p)/ 2偏振,Ravg> 99%,可在0至45°的所有入射角下工作

Ø激光損傷閾值> 1 J / cm2,脈沖為8納秒,典型值為1064 nm

具有高反射率的寬帶和激光線介電反射鏡(在規(guī)定的較小范圍內(nèi)大于99%),可在0°至45°的所有入射角下工作。寬帶和激光線反射鏡適用于280-400 nm,349-355 nm,400-750 nm,524-532 nm,532 + 1064 nm,750-1100 nm,1047-1064 nm波長范圍。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品型號

基材: UVFS

型號

材料

D

ET

R, % (S+P)/2

AOI

波長

041-0257-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

0-45°

257 nm

042-0257-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.0%

0-45°

257 nm

086-2840-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

0-45°

280-400 nm

082-2840-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.0%

0-45°

280-400 nm

041-0350-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.5%

0-45°

343-355 nm

042-0350-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.5%

0-45°

343-355 nm

086-4075-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

0-45°

400-750 nm

082-4075-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.0%

0-45°

400-750 nm

085-4075-i0-45

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.0%

0-45°

400-750 nm

041-0530HHR-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.9%

0-45°

524-532 nm

042-0530HHR-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.9%

0-45°

524-532 nm

061-5306HHR-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.7%

0-45°

532+1064 nm

062-5306HHR-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.7%

0-45°

532+1064 nm

086-7511-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.0%

0-45°

750-1100 nm

082-7511-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.0%

0-45°

750-1100 nm

085-7511-i0-45

UVFS

50.8 mm

8 mm

99.0%

0-45°

750-1100 nm

041-0800HHR-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.9%

0-45°

760-840 nm, Low GDD

042-0800HHR-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.9%

0-45°

760-840 nm, Low GDD

041-1060HHR-i0-45

UVFS

12.7 mm

6 mm

99.7%

0-45°

1047-1064 nm

042-1060HHR-i0-45

UVFS

25.4 mm

6 mm

99.7%

0-45°

1047-1064 nm

基材: BK7

型號

材料

D

ET

R, % (S+P)/2

AOI

波長

076-4076-i0-45

BK7

12.7 mm

6 mm

99.0%

0-45°

400-750 nm

072-4075-i0-45

BK7

25.4 mm

6 mm

99.0%

0-45°

400-750 nm

075-4075-i0-45

BK7

50.8 mm

8 mm

99.0%

0-45°

400-750 nm

076-7511-i0-45

BK7

12.7 mm

6 mm

99.0%

0-45°

750-1100 nm

072-7511-i0-45

BK7

25.4 mm

6 mm

99.0%

0-45°

750-1100 nm

075-7511-i0-45

BK7

50.8 mm

8 mm

99.0%

0-45°

750-1100 nm

基材

材料

UV級熔融石英

S1表面平整度

λ/10 typical at 633 nm

S1表面質(zhì)量

20-10 表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

S2表面質(zhì)量

簡單拋光

直徑公差

+ 0.00 mm, - 0.12 mm

厚度公差

± 0.25 mm

< 3 minutes

倒角

0.3 mm at 45° typical

鍍膜

技術(shù)

電子束多層電介質(zhì)

附著力和耐久性

符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑

通光孔徑

超過中心直徑的85%

損傷閾值

1 J / cm2,8納秒脈沖,典型值1064 nm

鍍膜表面平整度

633 nm處的λ/ 10超過直徑的85%

入射角

從0°到45°

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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